工业水处理设备

电子超纯水设备

一、产品介绍
我公司采用国际先进的两级反渗透装置,配套进口混合离子交换设备或EDI设备和紫外线灭菌器、精密过滤器,出水水质符合电子部超纯水水质标准(18MΩ·cm、15MΩ·cm、2MΩ·cm和0.5MΩ·cm四级),取代蒸馏水,满足大专院校、科研机构和工业企业的实验、科研和生产对高纯度纯水的要求。

该设备广泛应用于电镀工艺去离子水、电池生产工艺用纯水、汽车、家用电器、建材产品表面涂装、清洗纯水、镀膜玻璃用纯水、纺织印染工艺所需的除硬除盐水系统。超纯水制造技术的发展极大地推动了半导体和电子工业的技术发展。综合膜技术、紫外线、离子交换、超滤等技术,有效满足对总有机碳、硅、电阻率、微粒、细菌、金属离子、溶解氧指标等的特殊要求。

工艺流程:

l 方案一:预处理—反渗透—初混床—精混床—终端后处理

l 方案二:预处理—二级反渗透—EDI—终端后处理

l 方案三:预处理—二级反渗透—EDI—膜脱气—抛光混床—终端后处理

水质标准:

根据客户要求可达到以下标准:符合美国ASTM标准,电子部超纯水水质标准(18MΩ·cm、15MΩ·cm、2MΩ·cm和0.5MΩ·cm四级)

二、 应用领域

1. 电子材料加工、单晶硅半导体、半导体材料、液晶显示器、计算机硬盘、印刷电路板、集成电路;

2. LCD、EL、PDP、TFT、玻壳和显像管;

3. 超纯材料和超纯化学剂导纤维和光盘;

4. 汽车、家电表面电泳漆清洗用水及其它高科技精密产品实验室和中试车间;

三、 技术参数

型号

产水量

(m³/H)

电机功率(KW)

入口管径(mm)

设备尺寸

(mm)

设备重量(Kg)

TCRO-D-0.5

0.5

1.50

DN20

1500×700×1250

100

TCRO-D-1

1

2.20

DN25

1500×700×1250

120

TCRO-D-2

2

4.00

DN25

2500×700×1250

180

TCRO-D-3

3

4.00

DN32

2500×700×1550

230

TCRO-D-5

5

8.50

DN40

2500×900×1550

300

TCRO-D-8

8

10.00

DN50

3600×800×1550

400

TCRO-D-10

10

11.00

DN50

3600×800×1550

500

TCRO-D-15

15

16.00

DN65

4600×1000×1550

840

TCRO-D-20

20

22.00

DN65

4600×1000×1550

1540

TCRO-D-30

30

37.00

DN80

6600×1000×1600

2210

TCRO-D-40

40

45.00

DN100

6600×1000×1600

2370

TCRO-D-50

50

55.00

DN125

6600×1600×2000

3500

TCRO-D-60

60

75.00

DN150

6600×1600×2000

3950

TCRO-D-80

80

90.00

DN200

6600×1800×2000

4500

TCRO-D-100

100

110.00

DN250

6600×2200×2000

5700

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